Plasma-assisted removal of oxygen traces from coke oven gas using a twin-surface dielectric barrier discharge

  • Eine dielektrisch behinderte Oberflächenentladung wurde in der Entfernung von O\(_2\) Spuren aus Koksofengas untersucht, wobei die Reaktion von O\(_2\) in H\(_2\)/N\(_2\) Gemischen als Modellreaktion diente. Das Plasma erzielte eine hohe Aktivität und der O\(_2\) Umsatz stieg als Funktion des H\(_2\) Stoffmengenanteils, der Leistung und der Elektronendichte. Kinetische Studien zeigten eine scheinbare Aktivierungsenergie von ca. 0 kJ mol\(^{-1}\), was auf einen durch Dissoziation von O\(_2\) oder H\(_2\) initiierten Radikalkettenmechanismus hindeutet. Schlierenaufnahmen zeigten einen plasma-induzierten, radialen Stofftransport, der eine Durchmischung der Gasphase bewirkt, während die Reaktion primär im Plasma abläuft. Des Weiteren wurde die Oberflächenentladung erfolgreich in der Entfernung von O\(_2\)-Spuren aus synthetischem Koksofengas eingesetzt. Trotz der Anwesenheit von CH\(_4\), CO und CO\(_2\) wurden bei vergleichbarer Aktivität kaum Nebenprodukte identifiziert. Neben H\(_2\)O und CO\(_2\) wurden nur C\(_2\)H\(_x\) sowie Kohlenstoffablagerungen nachgewiesen.

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Metadaten
Author:Kevin OllegottGND
URN:urn:nbn:de:hbz:294-100319
DOI:https://doi.org/10.13154/294-10031
Referee:Martin MuhlerORCiDGND, Peter AwakowiczORCiDGND, Wolfgang KleistORCiDGND
Document Type:Doctoral Thesis
Language:English
Date of Publication (online):2023/07/11
Date of first Publication:2023/07/11
Publishing Institution:Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
Granting Institution:Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Chemie und Biochemie
Date of final exam:2020/10/30
Creating Corporation:Fakultät für Chemie und Biochemie
GND-Keyword:Kinetik; Plasma; Sauerstoff; Elektronendichte; Aktivierungsenergie
Institutes/Facilities:Lehrstuhl für Technische Chemie
Dewey Decimal Classification:Naturwissenschaften und Mathematik / Chemie, Kristallographie, Mineralogie
faculties:Fakultät für Chemie und Biochemie
Licence (German):License LogoKeine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht