3-dimensionale Nanostrukturierung mittels fokussierter Ionenstrahllithographie
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| Author: | Michael HillmannGND |
|---|---|
| URN: | urn:nbn:de:hbz:294-4419 |
| Referee: | Andreas D. WieckORCiDGND, Ralf-Jürgen DettmarORCiDGND, Claus RolfsGND, Susanne HüttemeisterGND, Bodo HuckesteinGND |
| Document Type: | Doctoral Thesis |
| Language: | German |
| Date of Publication (online): | 2003/03/18 |
| Date of first Publication: | 2003/03/18 |
| Publishing Institution: | Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek |
| Granting Institution: | Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Physik und Astronomie |
| Date of final exam: | 2001/12/17 |
| Creating Corporation: | Fakultät für Physik und Astronomie |
| GND-Keyword: | Nanostruktur; Lithographie; Ionenstrahl; Sputtern |
| Institutes/Facilities: | Lehrstuhl für angewandte Festkörperphysik |
| Dewey Decimal Classification: | Naturwissenschaften und Mathematik / Physik |
| faculties: | Fakultät für Physik und Astronomie |
| Licence (German): |  Keine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht |
