Grundlegende Untersuchungen zur Steuerung und Reaktionskinetik von NH\(_{3}\)- und N\(_{2}\)/H\(_{2}\)-Plasmen

  • Ammoniakplasmen finden in der Halbleiterindustrie Anwendung zur Erzeugung von Passivierungs- und Anti-Reflektionsschichten für Solarzellen. Eine weitere wichtige Anwendung betrifft die biokompatible Funktionalisierung von Oberflächen. Aufgrund der Umweltunverträglichkeit von Ammoniak soll untersucht werden, ob ein Ersatz durch Wasserstoff-/Stickstoff-Gasgemischen möglich ist. In dieser Arbeit werden NH\(_{3}\)- sowie N\(_{2}\)/H\(_{2}\)-Gasgemischplasmen massenspektrometrisch untersucht. Die Plasmadichte wird mittels einer Langmuirsonde bestimmt. Die Plasmen werden durch eine HF-angeregte, induktiv gekoppelte Plasmaquelle erzeugt. Die Plasmazusammensetzung in Abhängigkeit von Druck, Leistung und Mischungsverhältnis soll Aufschluss über die Reaktionskinetik geben. Der Schwerpunkt liegt hierbei auf den zeitmodulierten Plasmen.

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Metadaten
Author:Ralf Slaby
URN:urn:nbn:de:hbz:294-34982
Document Type:Doctoral Thesis
Language:German
Date of Publication (online):2012/07/16
Date of first Publication:2012/07/16
Publishing Institution:Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
Granting Institution:Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
Date of final exam:2012/04/27
Creating Corporation:Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
GND-Keyword:Plasma; Reaktionskinetik; Ammoniak; Stickstoff; Wasserstoff
Dewey Decimal Classification:Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Elektrotechnik, Elektronik
Licence (German):License LogoKeine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht